Артикул: 723664

Установка плазменно-порошкового напыления Р-1000 предназначена для нанесения износостойких, коррозионностойких, теплозащитных, уплотнительных, антифрикционных и других покрытий, придающих изделиям новые свойства и увеличивающие их ресурс.

по запросу
В корзину В корзине
Задать вопрос

Установка плазменно-порошкового напыления Р-1000 предназначена для нанесения износостойких, коррозионностойких, теплозащитных, уплотнительных, антифрикционных и других покрытий, придающих изделиям новые свойства и увеличивающие их ресурс. Большой выбор отработанных технологий напыления на данной установке позволяет получать хорошо повторяемые покрытия высокого качества.

В установке в качестве плазмообразующего газа используется аргон и водород. При необходимости, в качестве плазмообразующих могут использоваться различные газовые смеси, азот, гелий (доп. опция) и др.

p-1000.jpg

В состав установки входят:
  • пульт управления VIP 6000;
  • шкаф управления PLC;
  • шкаф газоподготовки;
  • блок коммутации Jam Box;
  • источник тока РРС 2012;
  • порошковый питатель PF 2/2;
  • холодильник SK 32;
  • плазмотрон F-4 (и/или F-1, F-2, 11МВ, SG-100, доп. опция).


В комплекте к данной установке можно подобрать дополнительное оборудование и материалы для напыления

Технические характеристики

Давление газов на входе в установку:
аргон, ГОСТ10157-79 0,5 МПа
водород, ГОСТ 3022-80(А) 0,7 МПа
азот, ГОСТ9293-74 0,5 МПа
гелий, ТУ 0271 марка «Б» 0,6 МПа
сжатый воздух, (требования по качеству согласно DIN ISO 8573-1 в соответствии с классами: остаточная пыль 1кл, остаточная вода 4кл, остаточное масло 2кл) 0,5-0,6 МПа
Расход плазмообразующих газов и воздуха:
аргон до 100 л/мин
водород до 20 л/мин
азот до 100 л/мин
гелий до 100 л/мин
сжатый воздух 2 - 4м3/час (определяется
требованиями технологии)
Транспортирующий газ:
аргон, расход на 2-и колбы до 30 л/мин
Применяемые порошки металлические, композитные,
керамические, конгломерированные
Фракционный состав порошков 40 - 100 мкм
Количество и объём колб для порошка 2х1,5 л
Производительность (для плазмотрона F-4):
при напылении оксидов и карбидов 3 - 10 кг/час
при напылении металлов и сплавов 2 - 5 кг/час
Пористость покрытия 0,5 - 8 %
Адгезия более 50 МПа
Толщина напыляемого слоя от 0,03 мм
Мощность применяемых плазмотронов до 80 кВт
Теплосъём системы охлаждения плазмотрона 35 кВт
Ток дуги плазмотрона 10-1000 А, плавно регулируемый
Напряжение на дуге плазмотрона 40-80 В, плавно регулируемое
Напряжение холостого хода 150 В
Электропитание установки 3х380В/50Гц
Потребляемая мощность до 150 кВт
Вернуться к списку