Сдвоенная установка плазменного и высокоскоростного напыления HVАP

Артикул: 723662

Установка HVАP предназначена для нанесения широкого спектра функциональных покрытий методом высокоскоростного газопламенного (HVAF) и плазменно-порошкового (APS) напыления.

по запросу
В корзину В корзине
Задать вопрос

Установка в режиме плазменного напыления использует в качестве плазмообразующего аргон и водород. При необходимости, в качестве плазмообразующих могут использоваться различные газовые смеси, азот, гелий (доп. опция) и др.

В режиме высокоскоростного газотермического напыления (HVАF) используются метан (пропан) и кислород.

HVAP.jpg
В состав установки входят:
  • шкаф системы управлени;
  • пульт управления VIP-6000;
  • шкаф газоподготовки;
  • блок коммутации Jam Box;
  • источник питания РРС-2012;
  • холодильник SK 32 (или аналогичный);
  • питатель порошковый PF 2/2;
  • плазмотрон F-4 (или F-1, F-2, 11MВ, SG-100 и др.);
  • горелка GLC-720 с воздушным охлаждением.


В комплекте к данной установке можно подобрать дополнительное оборудование и материалы для напыления

Характеристики

Технические характеристики
Давление газов на входе в установку:
аргон, ГОСТ10157-79 0,5 МПа
водород, ГОСТ 3022-80(А) 0,7 МПа
гелий, ТУ 0271 марка «Б» 0,6 МПа
азот, ГОСТ 9293-74 0,6 МПа
сжатый воздух, требования по качеству согласно DIN ISO 8573-1 в соответствии с классами: остаточная пыль 1кл, остаточная вода 4кл, остаточное масло 2кл 0,5-0,6 МПа
Расход газов и воздуха (APS):
аргон до 100 л/мин
водород до 20 л/мин
азот до 50 л/мин
гелий до 50 л/мин
сжатый воздух 2- 4 м3/час (определяется требованиями технологии)
Расход газов (HVАF):
кислород до 250 л/мин
пропан до 50 л/мин
метан до 120 л/мин
сжатый воздух 0,9- 1,2 м3/час
Транспортирующий газ:
аргон или азот 2х15 л/мин
Применяемые порошки металлические, композитные, керамические, конгломерированные
Количество и объём колб для порошка 2х1,5 л
Производительность (APS , для плазмотрона F-4):
при напылении оксидов и карбидов 3 - 10 кг/час
при напылении металлов и сплавов 2 - 5 кг/час
Производительность (HVАF):
при напылении карбидов 1,8 кг/ч
при напылении металлов и сплавов 2,0 кг/ч
Пористость покрытия 0,5 - 8 %
Адгезия более 50 МПа
Толщина напыляемого слоя от 0,03 мм
Ток дуги плазмотрона 10-1000 А
Напряжение на дуге плазмотрона 40-80 В
Электропитание установки 3х380В/50Гц
Потребляемая мощность до 150 кВт
Вернуться к списку