Сдвоенная установка плазменного и высокоскоростного напыления HVP

Артикул: 723663

Установка HVP предназначена для нанесения широкого спектра функциональных покрытий методом высокоскоростного газопламенного (HVOF) и плазменно-порошкового (APS) напыления.

по запросу
В корзину В корзине
Задать вопрос

Установка объединяет преимущества газопламенного и плазменного процессов напыления при значительной экономии места и средств по сравнению с отдельной компоновкой устройств.

Установка в режиме плазменного напыления использует в качестве плазмообразующих газов аргон и водород. При необходимости, в качестве плазмообразующих могут использоваться различные газовые смеси, азот, гелий (опция).

В режиме высокоскоростного газотермического напыления (HVOF) используются керосин и кислород.

hvp.jpg

В состав установки входят:
  • шкаф управления;
  • пульт управления VIP-6000;
  • шкаф газоподготовки;
  • блок подачи керосина;
  • блок коммутации Jam Box;
  • блок коммутации Water Box;
  • источник питания РРС 2012;
  • холодильник SK-72;
  • питатель порошковый PF 2/2;
  • плазмотрон F-4 (или F-1, F-2, 11MВ, SG-100);
  • горелка К-2.

В комплекте к данной установке можно подобрать дополнительное оборудование и материалы для напыления

Характеристики

Технические характеристики
Давление газов на входе в установку:
аргон, ГОСТ10157 -79 0,5-0,9 МПа
водород, ГОСТ 3022-80(А) 0,7-0,9 МПа
азот, ГОСТ9293- 74 0,5-0,9 МПа
кислород, ГОСТ 5583-78 2,1-2,3 МПа
Расход газов и керосина:
аргон до 100 л/мин
водород до 15 л/мин
азот до 50 л/мин
кислород 500-1000 л/мин
керосин 10-25 м3/час (определяется требованиями технологии)
Транспортирующий газ:
кислород до 250 л/мин
Транспортирующий газ:
аргон, расход на 2-е колбы до 30 л/мин
Применяемые порошки металлы, карбиды, металлокерамика, керамика
Фракционный состав порошков (плазмотрон) 40 - 100 мкм
Фракционный состав порошков (горелка) 5 - 60 мкм
Количество и объём колб для порошка 2х1,5 л
Производительность (для плазмотрона F-4):
при напылении оксидов и карбидов 3 - 10 кг/час
при напылении металлов и сплавов 2 - 5 кг/час
Производительность (для плазмотрона K-2):
при напылении оксидов и карбидов 6 - 12 кг/час
при напылении металлов и сплавов 8 - 10 кг/час
Пористость покрытия (плазмотрон) 0,5 - 8 %
Адгезия более 50 МПа
Толщина напыляемого слоя от 0,03 мм
Ток дуги плазмотрона 10-1000 А, плавно регулируемый
Напряжение на дуге плазмотрона 40-80 В, плавно регулируемое
Электропитание установки 3х380В/50Гц
Потребляемая мощность до 150 кВт
Вернуться к списку